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产品名称:

全反射X荧光光谱仪

产品型号: TX 2000
更新时间: 2022-09-05
品牌: GNR
生产地址:
TXRF(全反射X荧光/全反射X射线)分析原理是基于X荧光能谱法,但与X射线能谱形成对比的是,传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品,而TXRF采用毫弧度的临界角(接近于零度角)入射。由于采用此种近于切线方向的入射角,原级X光束几乎可以全部被反射,照射在样品表面后,可以很大程度上避免样品载体吸收光束和减小散射的发生,同时减小了载体的背景和噪声,亦可减少样品使用量。
  • 详细内容
  全反射X荧光光谱仪应用范围
 
  TXRF(全反射X荧光)分析原理是基于X荧光能谱法,但与X射线能谱形成对比的是,传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品,而TXRF采用毫弧度的临界角(接近于零度角)入射。由于采用此种近于切线方向的入射角,原级X光束几乎可以全部被反射,照射在样品表面后,可以很大程度上避免样品载体吸收光束和减小散射的发生,同时减小了载体的背景和噪声,亦可减少样品使用量。
 
  TX2000 将全反射和传统的能量色散集成在同一台仪器上,创新光学编码器的步进电机,角度测量,软件控制Mo/W靶可自由切换,采用高分辨、低背景的帕尔贴控温硅漂移检测器。
 
  应用范围
 
  TX2000 可检测从钠Na到钚Pu所有元素含量,可进行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg),广泛的应用在环境分析(水、灰尘、沉积物、大气悬浮物),制药分析(生物体液和组织样品中的有害元素),法医学(微小证据分析),化学纯度分析(酸、碱、盐、溶剂、水、超纯试剂),油品分析(原油、轻质油、燃料油),染料分析(墨水、油漆、粉末),半导体材料分析(挥发相分解),核材料工业(放射性元素分析)。
 
  主要特点
 
  1、单内标校正,有效简化了定量分析,无基体影响;
 
  2、对于任何基体的样品可单独进行校准和定量分析;
 
  3、多元素实时分析,可进行痕量和超痕量分析;
 
  4、不受样品的类型和不同应用需求影响;
 
  5、*的液体或固体样品的微量分析,分析所需样品量小;
 
  6、优良的检出限水平,元素分析范围从钠覆盖到钚;
 
  7、动态线性范围;
 
  8、无需任何化学前处理,无记忆效应;
 
  9、非破坏性分析,运行成本低廉。
  在X荧光谱仪范围内,与波长色散谱仪(WXRF)方法比较,由于TXRF分析技术用样量很少,也不需要制作样品的烦琐过程,又没有本底增强或减弱效应,不需要每次对不同的基体做不同的基体校准曲线。另外由于使用内标法,对环境温度等要求很低。因而在简便性、经济性、用样量少等方面,都比WXRF方法有明显的优越性。
 
  TXRF技术可以对从氧到铀的所有元素进行分析,一次可以对近30种元素进行同时分析,这是原子吸收谱仪中的ETAAS和FAAS方法难以做到的。与质谱仪中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析(NAA)等方法相比较,TXRF分析方法在快速、简便、经济、多元素同时分析、用样量少、检出限低、定量性好等方面有着综合优势。

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