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全反射X射线荧光(TXRF)前处理方式

发布日期: 2023-01-18
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全反射X射线荧光(TXRF)是一种微量分析(Microanalysis)方法,特别适用于样品量小的样品,一次分析所需样品量,固体材料可达微克级,液体样品则通常少于100μL。但一般原样很少能直接上机检测,多数需要将对样品进行预处理得到溶液、悬浊液、细粉或薄片等。

通常,固体样品必须经过研碎或消解等步骤,对于超痕量组分来说,还需要对基体进行分离或破坏。因此,用于其他原子光谱的前处理方法,如AASICP-OES等中所使用的消解、富集、冻干、萃取、络合等都可用于TXRF。对于样品量特别小的样品,为避免污染,关键步骤还需要在洁净室内进行。样品分析流程图如下:

                           

2-1.jpg

                   

1 TXRF样品分析流程图

下表中给出了一些样品的前处理方法:


意大利GNR公司是一家老牌的欧洲光谱仪生产商,其X射线产品线诞生于1966年,经过半个多世纪的开发和研究,该产品线已经拥有众多型号满足多个行业的分析需求。

X射线衍射仪(XRD)可测试粉末、薄膜等样品的晶体结构等指标,多应用于分子结构分析及金属相变研究;而全反射X荧光光谱仪(TXRF)的检测限已达到皮克级别,其非破坏性分析特点应用在痕量元素分析中,涉及环境、医药、半导体、核工业、石油化工等行业;为迎合工业市场需求而设计制造的专用残余应力分析仪、残余奥氏体分析仪,近年来被广泛应用在材料检测领域,其操作的便捷性颇受行业青睐。




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