全反射X射线荧光(TXRF)对碳化硅等难溶样品检测的优点

常见难溶样品如：碳化硼、碳化硅、氮化硼在磨料、特种刀具、核工业等领域有广泛的应用。其杂质元素检测通常采用ICP-OES、GD-MS、DCA、ICP-MS等设备，部分标准如下：

GB/T 3045-2017 普通磨料 碳化硅化学分析方法  湿法消解ICP-OES

GB/T 34003-2017 氮化硼中杂质元素测定方法  微波消解ICP-OES

ASTM C791 核级碳化硼的化学、质谱及光谱分析标准方法  高压消解/碱熔ICP-OES/MS法

JB/T 7993-2012 碳化硼化学分析方法 消解后分光光度法

Ø  常规方法所面临的难点

ICP-OES及ICP-MS需要湿法消解或微波消解，带来如下问题：样品稀释、定容后，因稀释造成检出限变差、费时、大量化学试剂、潜在污染风险；

GDMS及DCA设备价格高，操作复杂。

Ø  使用TXRF检测的优点

采用悬浊法、加入内标后直接上机检测；

大幅缩短前处理时间，仅需干燥、混匀等操作；

无需使用大量化学试剂；

简化检测流程：采用内标法定量，无需绘制标准曲线；

在线富集可进一步提升检出限。

Ø  TXRF的检测流程