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全反射X射线荧光(TXRF)对碳化硅等难溶样品检测的优点

更新日期: 2024-02-18
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常见难溶样品如:碳化硼、碳化硅、氮化硼在磨料、特种刀具、核工业等领域有广泛的应用。其杂质元素检测通常采用ICP-OESGD-MSDCAICP-MS等设备,部分标准如下:

GB/T 3045-2017 普通磨料 碳化硅化学分析方法  湿法消解ICP-OES

GB/T 34003-2017 氮化硼中杂质元素测定方法  微波消解ICP-OES

ASTM C791 核级碳化硼的化学、质谱及光谱分析标准方法  高压消解/碱熔ICP-OES/MS

JB/T 7993-2012 碳化硼化学分析方法 消解后分光光度法

Ø  常规方法所面临的难点

ICP-OESICP-MS需要湿法消解或微波消解,带来如下问题:样品稀释、定容后,因稀释造成检出限变差、费时、大量化学试剂、潜在污染风险;

GDMSDCA设备价格高,操作复杂。

Ø  使用TXRF检测的优点

采用悬浊法、加入内标后直接上机检测;

大幅缩短前处理时间,仅需干燥、混匀等操作;

无需使用大量化学试剂;

简化检测流程:采用内标法定量,无需绘制标准曲线;

在线富集可进一步提升检出限。

Ø  TXRF的检测流程


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