全反射X射线荧光(TXRF)前处理方式的考量

全反射X射线荧光(TXRF)是一种微量分析方法，特别适用于样品量小的样品，一次分析所需样品量，固体材料可达μg级，液体样品则通常少于100μL。

TXRF受自身原理限制，样品于玻片上必须满足薄层的要求，以消除普遍存在于EDXRF中的基体影响。因此，其样品量明显减少，且前处理方式也有着明显不同。

通常，可根据样品形态选择合适的前处理方式，且可能需要考虑如下的几点要求：

a.   于样品玻片上形成均匀的薄层；

b.   待测元素及内标元素均匀分布；

c.   待测元素的富集；

d.   待测元素与干扰元素的分离；

e.   阻止样品溶液扩散；

基于以上因素，TXRF所采用的前处理既继承了部分常见无机元素检测中的方法，又发展出了具有自身特色的前处理方式，如下图：