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全反射X射线荧光(TXRF)前处理方式的考量

更新日期: 2024-02-21
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全反射X射线荧光(TXRF)是一种微量分析方法,特别适用于样品量小的样品,一次分析所需样品量,固体材料可达μg级,液体样品则通常少于100μL

TXRF受自身原理限制,样品于玻片上必须满足薄层的要求,以消除普遍存在于EDXRF中的基体影响。因此,其样品量明显减少,且前处理方式也有着明显不同。

通常,可根据样品形态选择合适的前处理方式,且可能需要考虑如下的几点要求:

a.   于样品玻片上形成均匀的薄层;

b.   待测元素及内标元素均匀分布;

c.   待测元素的富集;

d.   待测元素与干扰元素的分离;

e.   阻止样品溶液扩散;

基于以上因素,TXRF所采用的前处理既继承了部分常见无机元素检测中的方法,又发展出了具有自身特色的前处理方式,如下图:


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